捷佳伟创5月5日在互动平台表示，在半导体设备领域，公司全资子公司创微微电子自主开发了6吋、8吋、12吋湿法刻蚀清洗设备，包括有篮和无篮的槽式设备及单片设备，涵盖多种前道湿法工艺，获得了批量订单，同时公司也在开展第三代半导体退火炉、氧化炉等高端工艺装备的研发，实现公司从光伏装备领域向半导体装备领域的战略上拓展。

（文章来源：界面新闻）