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国林科技:公司目前研制的高浓度臭氧气体发生器设备可用于薄膜沉积工艺的氧化成膜
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国林科技:公司目前研制的高浓度臭氧气体发生器设备可用于薄膜沉积工艺的氧化成膜
2023-05-26 10:34:00
每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:可否介绍一下产品薄膜沉积设备应用?
国林科技
(300786.SZ)5月26日在投资者互动平台表示,公司目前研制的高浓度臭氧气体发生器设备可用于薄膜沉积工艺的氧化成膜,传统的薄膜沉积制成方法有三种:PVD、CVD、ALD,PVD属于物理方法,CVD、ALD主要利用臭氧通过化学反应在硅片表面形成薄膜保护。
(文章来源:每日经济新闻)
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