南大光电：目前通过客户验证的ArF光刻胶主要应用于存储芯片50nm和逻辑芯片55nm生产工艺
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南大光电：目前通过客户验证的ArF光刻胶主要应用于存储芯片50nm和逻辑芯片55nm生产工艺
2023-09-01 18:02:00
每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：小批量量产的光刻胶最多可以用于几nm芯片生产工艺？
南大光电（300346.SZ）9月1日在投资者互动平台表示，目前通过客户验证的ArF光刻胶主要应用于存储芯片50nm和逻辑芯片55nm生产工艺。
（文章来源：每日经济新闻）
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