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飞凯材料:公司IC光刻胶主要用于芯片制造过程中的光刻制程
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飞凯材料:公司IC光刻胶主要用于芯片制造过程中的光刻制程
2023-09-11 12:32:00
飞凯材料
9月11日在互动平台表示,公司光刻胶产品有两类,一类是应用在面板领域的正性光刻胶和负性光刻胶产品,一类是应用于半导体领域的i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料光刻胶,其中公司的IC光刻胶主要用于芯片制造过程中的光刻制程。
(文章来源:界面新闻)
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