阿石创涨停原因：
300706 阿石创9:32创业板+芯片-靶材+OLED
(三报股)ITO靶材涨价20%+平板显示溅射靶材建设项目(含OLED),部分产品持续供货京东方+经营范围含稀土:现阶段所涉及的部分产品有钛酸镧.氟化镧.铝钕靶材.氧化钇靶材等+主导产品为溅射靶材和蒸镀材料两个系列产品,主要用于制备各种薄膜材料
（更新时间：2021-06-23）

阿石创涨停/异动原因：
异质结ITO靶材+芯片
1、22年6月23日，公司与福州市综合能源有限公司在长乐区签订分布式光伏发电能源分享协议，成为福州市首家签约异质结光伏发电系统的上市公司。
2、公司在异质结太阳能电池领域主要为ITO靶材，异质结太阳能电池尚处于产业化前期阶段，公司目前与光伏行业下游客户的合作也处在开拓之中，未来随着异质结太阳能电池的快速推广，ITO靶材的市场销售规模也会迈向新的台阶。
3、公司“平板显示用高性能ITO靶材关键技术及工程化项目”正有序推进中，公司重点布局平板显示靶材，产品包括ITO靶、钼靶、铝靶、铜靶、钛靶等，主要客户有京东方、友达光电等。
4、公司半导体产品目前处于研发或小批量供货阶段 ，半导体行业的应用开发是公司主要方向之一；半导体用PVD镀膜材料研发与产业化系战略方向之一。
5、公司专业从事各种PVD镀膜材料研发、生产和销售，主导产品为溅射靶材和蒸镀材料两个系列产品。
（更新时间：2022-06-24）

题材要点：

要点一:钒液电池领域
2022年7月11日公司在互动平台披露：公司三明项目将主要围绕金属钒元素进行深度和广度的开发，主要产品为氧化钒，钒氮合金等，其中氧化钒可以用在钒液电池领域，三明项目仍在建设中。

要点二:复合铜箔技术
2022年7月8日公司在互动平台披露：公司所研发的复合铜箔(PET，PBN，PP等基材镀铜膜）技术在目前的生产工艺中可采用两种方式进行：PVD溅镀后电镀，直接PVD蒸镀。其中PVD溅镀后电镀是利用PVD溅镀技术在复合材料上镀一层纳米级种子膜，再通过电镀增厚至微米级别，而直接PVD蒸镀是利用PVD蒸镀技术直接在复合材料上镀一层微米级别的铜箔。 复合铜箔具有减少用铜量，降低电池成本，基于塑料复合层，提高燃烧安全性，减轻电池重量，增加电池能量密度等优势。

要点三:投资钒合金新型材料
2022年6月份，公司全资子公司三明顶创恒隆材料有限责任公司在三明市沙县区投资建设“年产4,000吨钒合金新型材料项目”，且由福建顶创金属材料有限责任公司为该项目履行提供连带责任保证担保，并同意授权顶创恒隆和顶创金属签署《项目投资协议》。投资规模：计划投资2.5亿元人民币。发展目标：2022年8月份前实现项目投产，项目投产后的7年内即2029年9月29日前生产销售收入不少于25亿元。

要点四:超高清显示用铜靶材产业化建设项目
2022年5月13日公司在互动平台披露：公司投建的超高清显示用铜靶材产业化建设项目预计可使用状态为2023年11月底，现项目工程建设均按计划有序推进中，公司将在不影响建设规划的基础上尽可能的加快项目建设进度，争取早日实现项目投产 。

要点五:高纯金属颗粒
2022年4月26日公司在互动易平台披露： 高纯金属颗粒目前已产业化应用的有银，镱，镁，镍，钛，铝，铬，金等，广泛应用于LED与OLED等行业，随着Microled与OLED等下游应用场景的快速成长，高纯金属颗粒的应用空间也将打开。

要点六:HIT概念
2022年3月8日公司在互动平台披露：公司所生产的ITO靶材产品为HIT异质结电池生产过程中所需的重要原料之一。

要点七: 芯片用PVD镀膜材料
2021年7月5日公司在互动平台披露： 芯片用PVD镀膜材料的研发与产业化是公司战略方向之一。

要点八:溅射靶材
溅射靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料，具有高纯度，高密度，多组元，晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板（或背管）组成。按使用的原材料材质不同，公司溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材，合金靶材，化合物靶材等。2021年公司溅射靶材应用于平板显示，光学元器件，节能玻璃等行业，同时，公司亦加大研发力度，积极拓展半导体，太阳能电池等行业。

要点九:客户资源优势
在长期发展过程中，公司依靠技术、产品及服务优势积累了大批优质的客户资源，并保持长期稳定的合作关系。报告期内，公司已与京东方、群创光电、蓝思科技、伯恩光学、水晶光电等知名企业建立合作关系，得到下游行业广泛认可，树立良好的业界品牌形象。由于PVD镀膜材料专业型、技术性较强，且客户对PVD镀膜材料质量稳定性、交货及时性等要求很高，业务关系一旦建立，就会在相当长的时间内保持稳定，客户具有较强粘性。凭借较为稳定的合作关系，公司可以有针对性地研发生产出符合客户需求的产品，既可在竞争中赢取先机，又可实现服务增值，提高产品利润。优质的客户资源为公司业绩的持续稳定增长提供了保障。

要点十:PVD镀膜材料
公司是一家专门从事各种PVD镀膜材料研发、生产和销售的高新技术型生产企业，从自主研发精密光学产业所用的蒸镀材料开始，公司不断探索PVD镀膜材料的新材质、新配方和新工艺，持续开发产品种类和应用领域，迄今已研发出数百款产品，涵盖金属/非金属单质、合金及化合物等多种材质。报告期内，公司产品已在平板显示、光学光通讯、节能玻璃等领域得到广泛应用，并已研发出应用于LED、半导体等领域的多款产品，是国内PVD镀膜材料行业产品品种较为齐全、应用领域较为广泛、工艺技术较为全面的综合型PVD镀膜材料生产商。公司产品主要分溅射靶材和蒸镀材料两个系列。公司溅射靶材应用于平板显示、光学光通讯、节能玻璃等行业，同时，公司亦加大研发力度，积极拓展半导体、光伏等行业。公司研发的蒸镀材料应用领域包括光学光通讯、LED、平板显示和半导体分立器件等。公司主营范围为：金属、稀有金属、稀土、贵金属及其合金制成的真空蒸镀膜料、溅射靶材、石英制品、电子用高科技化学品的生产、研发和销售;光学元器件、平板显示器材料、导线支架、光学玻璃的生产、研发和销售;自营和代理各类商品和技术的进出口,但国家限定公司经营或禁止进出口的商品和技术除外。

要点十一:募投项目-研发中心建设项目
项目拟建设统一的研发中心，研发中心下辖三个实验室，分别是金属材料实验室（负责高纯单质金属、合金镀膜材料研究）、化合物材料实验室（负责化合物类镀膜材料研究，包括氧化物、硫化物、碳化物、氮化物等）和新型薄膜实验室（负责新型功能薄膜的应用开发，引导开发新型镀膜材料）。项目拟建设研发中心并购置相应的研发用软硬件设备，计划投资额4016.49万元，其中建设投资2290.49万元，研发支出1726.00万元。项目不直接产生效益，但项目建成后可以为公司研发多项专有技术，提高公司的产品质量，提高劳动生产率，增强企业的市场竞争力。项目研发产品为IGZO靶材、钼基合金靶材、二氧化钒靶材、多元金属薄膜溅射用合金靶材等，下游产业需求量大，市场前景良好。

要点十二:技术创新
首先，公司掌握了多种粉末冶金制备PVD镀膜材料的工艺，其中包含高温烧结，真空烧结，压力烧结，气氛烧结，热喷涂等工艺。其次，公司掌握了金属材质所采用的熔炼，塑性加工，热处理，精密加工等技术，具备控制溅射靶材微观织构的能力，特别是对于大面积溅射靶材。公司自主研发了多种独特的溅射靶材与背板复合的绑定技术，包含低温钎焊绑定，银胶绑定，扩散焊绑定等，根据不同的靶材材料特性选择最佳的绑定工艺，并且具备大型平板显示溅射靶材绑定和旋转管状溅射靶材的绑定能力。并且掌握了多种类型背板加工技术，材质包含高纯铜，铜合金，钛，不锈钢，铝合金等，通过多种工艺控制背板的强度，导热能力，以辅助溅射靶材进行长期稳定的溅射工作，并自主研发搅拌摩擦焊接技术，可进行复杂的内循环水路背板的加工制备。公司掌握了高密度ITO靶材的全套制备技术，具备纳米陶瓷粉末制备，高压注浆成型，富氧烧结等高技术含量生产技术，所制备的ITO靶材已成功在高端平面显示器生产线实现量产应用。

要点十三:技术研发
公司自主研发了多种独特的溅射靶材与背板复合的绑定技术，包含低温钎焊绑定，银胶绑定，扩散焊绑定等，根据不同的靶材材料特性选择最佳的绑定工艺，并且具备大型平板显示溅射靶材绑定和旋转管状溅射靶材的绑定能力。公司掌握了多种类型的背板加工技术，材质包含高纯铜，铜合金，钛，不锈钢，铝合金等，通过多种工艺控制背板的强度，导热能力，以辅助溅射靶材进行长期稳定的溅射工作，并自主研发搅拌摩擦焊接技术，可进行复杂的内循环水路背板的加工制备。