金宏气体:高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺,已有2家客户批量供货

最新信息

金宏气体:高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺,已有2家客户批量供货
2023-12-04 23:00:00


K图 688106_0
  金宏气体近期在接受调研时表示,正硅酸乙酯用于半导体气相沉积工艺,相对来说测试周期较长,目前已有2家客户于今年11月开始批量供货。高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺,正在积极导入客户过程中,目前已有2家客户批量供货。

(文章来源:界面新闻)
免责申明: 本站部分内容转载自国内知名媒体,如有侵权请联系客服删除。

金宏气体:高纯二氧化碳用于半导体超临界清洗工艺,已有2家客户批量供货

sitemap.xml sitemap2.xml sitemap3.xml sitemap4.xml