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日企将为Rapidus量产尖端光掩模 面向2nm制程
最新信息
日企将为Rapidus量产尖端光掩模 面向2nm制程
2024-03-27 14:00:00
日本公司DNP近日宣布,计划为Rapidus研发并量产用于2nm制程芯片的最尖端光掩模产品,预计2027年实现量产。此外,日本凸版(Toppan)公司也将开发最尖端的光掩模。
(文章来源:财联社)
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