聚和材料在互动平台上被问及“公司跟新凯来在未来是否会有合作？”时表示，新凯来推出的MBI莫干山设备为全场景空白掩模缺陷检测设备，可用于掩模基板厂和光罩厂工艺过程控制、出货检、来料检和设备颗粒控制等，支持掩模基板、掩模背面、镀膜层和光刻胶全场景检测，因此双方未来有合作机会。

（文章来源：科创板日报）