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国林科技：臭氧在ALD中作氧前驱体，与TMA等反应沉积单原子层氧化物薄膜
2025-12-17 16:39:00
证券日报网讯 12月17日，国林科技在互动平台回答投资者提问时表示，二者核心差异是作用相反，且均依托自限性循环：臭氧在ALD中作氧前驱体，与TMA等反应沉积单原子层氧化物薄膜；在ALE中作氧化剂，氧化基底表面原子后剥离，实现单原子层刻蚀。
（文章来源：证券日报）
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